APPLICATION / WEIWANG TECHNOLOGY

μm 等級破片高速檢測

面向半導體與 TFT 製程,針對影像中可見的微小裂紋、崩邊、缺角及破片規劃高速檢測。先讓缺陷穩定成像,再討論 ROI、運算流程與產線節拍。

洽詢樣品與成像評估 ↗
晶圓及 TFT 裂片檢測應用影像,斜向裂紋穿越明暗圖案
CCD 原始成像;未添加檢測框或推定尺寸。

晶圓與 TFT 裂片檢測的評估項目

裂片與破片需求可能包含連續裂紋、邊緣崩缺或材料缺失。不同異常對影像對比的要求不同,需將缺陷種類與允收規則分別列出,不能只用「有裂痕」概括所有條件。

  • 表面可見裂紋及其連續性
  • 邊緣崩邊、缺角與輪廓不完整
  • 破片有無與異常區域標示

μm 等級應如何定義?

μm 是微米。需求應說明的是最小缺陷寬度、長度或缺損尺寸,以及檢出率或量測精度要求。每像素對應尺寸只是成像規劃的一部分,不能直接當作最小可檢尺寸或量測精度。

  • 確認視野與每像素對應實際尺寸
  • 以代表性缺陷檢查亮暗區域的對比
  • 使用邊界樣品確認檢出能力與誤判情況

高速破片檢測如何規劃?

高速檢測需同時考慮曝光、相機傳輸、演算法與設備通訊。可先縮小有效 ROI、排除無關背景,再依影像條件評估候選區域及特徵分析。比較節拍時應記錄完整流程,而不是只有單一算子的執行時間。

  • 分開量測取像、分析、顯示與結果回覆時間
  • 評估有效 ROI 與影像資料量
  • 依現場觸發及搬送方式安排檢測交握

哪些裂紋需要另外評估?

材料內部或未形成可見光學對比的隱裂,不一定能由一般外觀 AOI 看見。若缺陷只在特定角度、背光或其他條件下出現,應先安排試拍與方法確認,再制定檢測規格。最小可檢尺寸、精度與速度依實測確認。

常見問題

這張照片能證明可檢到幾 μm 嗎?

不能。需有尺寸校正、已知缺陷樣品與測試紀錄,才能確認可檢尺寸。照片僅展示裂紋成像。

高速檢測是否代表固定每秒件數?

不代表。節拍依視野、曝光、資料量、演算法及設備通訊而變,需用實際工件測試取像至結果回覆的時間。

可檢出項目、最小尺寸、精度與節拍,依實際材料、光學條件與樣品測試確認。

討論您的μm 等級破片高速檢測需求

從實際樣品、影像條件與允收標準開始,規劃可驗證的檢測方式。

聯絡偉旺科技 ↗